微軟雅黑, "Microsoft YaHei";">在當前的硅基芯片制造過程中,光刻法是唯一的量產(chǎn)方法。
什么叫光刻法,既然就是利用光線,照射刻錄好的光掩膜板,把上面的電路圖,投影到硅晶圓上,類似于投影機的原理一樣。
而這個過程中,需要一種最重要的工具,那就是光刻機,而光刻機的分辨率,就決定了芯片工藝。
(資料圖片)
所以光刻機有DUV光刻機、浸潤式光刻機,EUV光刻機等,這些一代又一代的光刻機,提高的關鍵都是分辨率,也就是投影的精度,而對應的就是芯片工藝,比如EUV光刻機,用于7nm及以下的芯片。
目前全球僅有4家廠商,能夠生產(chǎn)制造芯片的前道光刻機,分別是荷蘭的ASML、日本的尼康、佳能,中國的上海微電子。
不過大家的水平不一樣,ASML>尼康>佳能>上海微電子。
ASML是全球唯一一家能夠制造EUV光刻機的廠商,而尼康的最高水平是浸潤式光刻機,佳能與上海微電子的水平更差一些。
所以這就奠定了ASML的王者地位,只要誰的芯片工藝想進入7nm,就必須找ASML買EUV光刻機,否則就不行。
所以一直以來,也有眾多的廠商,在研究另外的技術,以期不用EUV光刻機,也能制造7nm及以下的芯片。
那么有廠商突破了么?目前還沒有,不過應該很快了,我想看到這個消息,ASML應該也是有點慌了。
近日佳能就表示,到2025年,可以基于自己的NIL納米壓印技術,實現(xiàn)5nm芯片的制造,不再需要EUV光刻機了。
NIL納米壓印技術,是什么技術?從名字就可以看出來,類似于印刷的一種技術。
光刻技術是投影原理,而NIL納米壓印,是將電路圖刻錄到一個專用的“章子”上,然后再將這個“章子”蓋到硅晶圓上,在硅晶圓上就有了電路圖,最終制造成芯片。
納米壓印的難點,是如何將精細的電路圖刻錄到章子上,目前佳能已經(jīng)有成熟的技術,不過精度還不太高,佳能與鎧俠合作,應用于部分存儲芯片的制造上。
不過據(jù)稱最近有了突破,所以佳能再吹牛稱,到2025年要實現(xiàn)5nm芯片的制造,不再需要EUV光刻機。
那么國內在NIL納米壓印技術上,又表現(xiàn)的如何呢?其實國內也有很多公司在研究這個技術,不過總體而言,比佳能還是落后一些。
從專利來看,在NIL納米壓印技術上,佳能專利擁有913件,差不多接近所有專利的100%,明顯是一家獨大的。
不過雖然專利不行,國產(chǎn)技術還是有成績的,比如天仁微納,就有類似的技術,只不過目前沒有用在邏輯芯片上,更多是用在DOE、AR/VR衍射光波導(包括斜齒光柵)、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等領域。
而從精度來看,據(jù)說已經(jīng)在150/300mm基底面積上實現(xiàn)高精度(優(yōu)于10nm ),真假未知,但如果是真,還是挺讓人興奮的,希望國產(chǎn)加油吧,如果真的國產(chǎn)NIL納米壓印也實現(xiàn)到5nm,那根本就不怕光刻機卡脖子了。
原文標題?:?ASML有點慌:不用EUV光刻機,也能生產(chǎn)5nm芯片
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